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去離子水制取工藝及其特點(diǎn)

返回列表 來(lái)源:重慶名膜水處理 瀏覽:271 發(fā)布日期:2023-09-07 14:09:57【

去離子水是通過(guò)離子交換樹(shù)脂除去水中的離子態(tài)雜質(zhì)而得到的近于純凈的水,其生產(chǎn)裝置設(shè)計(jì)的合理與否直接關(guān)系到去離子水質(zhì)量的好壞及運(yùn)營(yíng)的經(jīng)濟(jì)性。 [1] 

去離子水制取工藝及其特點(diǎn)

1、離子交換樹(shù)脂制取去離子水的傳統(tǒng)水處理方式,其基本工藝流程為:

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)床→陰床→混床→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

(特點(diǎn):污染比較大,自動(dòng)化程度低,初期投入低)

2、反滲透-離子交換設(shè)備制取去離子水,水質(zhì)穩(wěn)定,純度較高,其基本工藝流程為:

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→混床→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

(特點(diǎn):污染小,自動(dòng)化程度高,初期投入中等,價(jià)格適中)

3、反滲透設(shè)備與電去離子(EDI)設(shè)備進(jìn)行搭配制取去離子水的的方式,這是一種制取超純水的zui新工藝,也是一種環(huán)保,經(jīng)濟(jì),發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?,其基本工藝流程為?/p>

原水→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→精密過(guò)濾器→反滲透設(shè)備→電去離子(EDI)→超純水箱→超純水泵→后置保安過(guò)濾器→用水點(diǎn)。

(特點(diǎn):環(huán)保,自動(dòng)化程度高,初期投入大,價(jià)格相對(duì)比較貴。)

處理步驟

從自來(lái)水到去離子水一般要經(jīng)過(guò)幾步處理 :

1、先通過(guò)石英砂過(guò)濾顆粒較粗的雜質(zhì)。

2、然后高壓通過(guò)反滲透膜。

3、然后一般還要經(jīng)過(guò)紫外殺菌以去除水中的微生物。

4、假如此時(shí)電阻率還沒(méi)有達(dá)到要求的話(huà),可以再進(jìn)行一次離子交換過(guò)程zui高電阻率可達(dá)到18兆。

相對(duì)而言,蒸餾水只是先氣化再冷凝,其純度如電阻率一般不如純度高的去離子水,半導(dǎo)體工業(yè)中用的大多數(shù)是高純度的去離子水。

主要用途

1、實(shí)驗(yàn)室、化驗(yàn)室用水,一般實(shí)驗(yàn)室的常規(guī)試驗(yàn)、配置常備溶液、清洗玻璃器皿等;

2、電子工業(yè)生產(chǎn),如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤(pán)、集成電路芯片、單晶硅半導(dǎo)體等;

3、電力鍋爐,鍋爐所需軟化水、除鹽;

4、汽車(chē)、家用電器、建材表面涂裝、電鍍、鍍膜玻璃清洗等;

5、石油化工行業(yè),化工反應(yīng)冷卻水、化學(xué)藥劑、生產(chǎn)配液用水等;

6、工業(yè)紡織印染、鋼鐵清洗用水等;

7、食品、飲料、酒類(lèi)、化妝品生產(chǎn)用水;

8、海水、苦咸水等凈化。

新型設(shè)備

被廣泛應(yīng)用的EDI系統(tǒng)就是如今最為熱門(mén)的新型電除鹽系統(tǒng) [2]  ,它取代傳統(tǒng)離子混床裝置成為純水行業(yè)的新星。EDI系統(tǒng)不但彌補(bǔ)了傳統(tǒng)工藝的缺陷簡(jiǎn)化工藝步驟,而且還提高生產(chǎn)效率;不論是從設(shè)備本身的性能,還是經(jīng)濟(jì)投資方面都比傳統(tǒng)的去離子水設(shè)備更具優(yōu)勢(shì)。

標(biāo)準(zhǔn):

1、無(wú)色的澄明液體、無(wú)臭、無(wú)味。

2、電阻率大于0.5 MΩ·cm(兆歐·厘米) zui高電阻率可達(dá)到18兆。

3、去離子水的純度比蒸餾水的高。